专利名称：

发明

一种雷达波吸收反射调控器

申请公布号：

CN117673765A

申请公布日：

2024-03-08

申请号：

2023116572673

申请日：

2023-12-04

申请人：

中国舰船研究设计中心,

地址：

430064 湖北省武汉市武昌区张之洞路268号

发明人：

丁凡,徐青,邓峰,范慧丽,陶鹏,

分类号：

H01Q15/00(2006.01);H01Q17/00(2006.01);

专利代理机构：

湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102

代理人：

胡建平

最终专利权人：

摘要：

本发明公开了一种雷达波吸收反射调控器，属于超材料技术领域，包括：若干周期性排列的单元结构，所述单元结构由上至下包括：电阻、谐振层、介质层、二极管、空气层和金属底板，其中，所述电阻、所述谐振层、所述介质层、所述二极管、所述空气层和所述金属底板相互贴合，所述介质层上贯通设置第一过孔和第二过孔。本申请实施例提供的一种雷达波吸收反射调控器利用电阻以及PIN二极管实现了较宽的工作带宽，通过谐振层的金属贴片给PIN二极管提供偏置电压，偏置网络与谐振层的金属贴片相融合，极大地降低了偏置网络对整体结构的影响。

权利要求书：

1.一种雷达波吸收反射调控器，其特征在于，包括：若干周期性排列的单元结构，所述单元结构由上至下包括：电阻、谐振层、介质层、二极管、空气层和金属底板，其中，所述电阻、所述谐振层、所述介质层、所述二极管、所述空气层和所述金属底板相互贴合，所述介质层上贯通设置第一过孔和第二过孔。2.根据权利要求1所述的雷达波吸收反射调控器，其特征在于，所述谐振层由2个双向箭头和4个金属贴片组成，4个金属贴片位于所述单元结构的最边缘处。3.根据权利要求2所述的雷达波吸收反射调控器，其特征在于，所述双向箭头之间相互垂直。4.根据权利要求2所述的雷达波吸收反射调控器，其特征在于，所述双向箭头沿X轴对称放置。5.根据权利要求1所述的雷达波吸收反射调控器，其特征在于，所述谐振层关于X轴和Y轴对称。6.根据权利要求3所述的雷达波吸收反射调控器，其特征在于，所述二极管位于双向箭头与4个金属贴片中间。7.根据权利要求1所述的雷达波吸收反射调控器，其特征在于，所述介质层由聚四氟乙烯F4BM高频天线板制成。8.根据权利要求1所述的雷达波吸收反射调控器，其特征在于，所述介质层的厚度为1mm。9.根据权利要求2所述的雷达波吸收反射调控器，其特征在于，在介质层上表面金属层的金属贴片上开一个空隙，在介质层的背面金属层开一个相同大小的空隙，介质层背面空隙的方向与介质层上表面金属层的金属贴片所开的空隙方向相互垂直，在两个空隙中用电阻连接。10.根据权利要求1所述的雷达波吸收反射调控器，其特征在于，所述谐振层上设置有偏置网络层。

主视图

日期	最新法律状态	描述
2024-03-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01Q15/00 专利申请号:2023116572673 申请日:20231204
2024-03-08	公开	公开